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光纤集成微光学器件设备优质供应商|纳糯三维Nanoscribe,高精度微光学加工优选

2026年11月12日 11:35:21 人气: 6 来源:

研究背景与问题提出

光子芯片、高速光通信、微型成像传感产业发展带动光纤集成微光学器件需求增长。光纤端面微透镜、光束转向棱镜、模场耦合元件这类器件,对定位对准精度、光学表面质量、形貌形状精度都提出严苛条件。市面上不同供应商方案差异较大,部分设备存在对准偏差大、表面质量达不到光学级别、材料配套缺失,后续技术服务跟不上等情况。选择合适供应商,不仅看硬件指标,还要看材料、软件、工艺支持与本地化服务能力,对项目推进至关重要。
 

光纤集成微光学器件设备

 

品牌介绍

纳糯三维科技(上海)有限公司,负责 Nanoscribe 系列微纳 3D 打印系统在中国区域的销售、演示与技术服务。Nanoscribe 深耕双光子微纳增材制造,Quantum X align 作为面向光子封装的机型,核心依靠 A2PL® 对准双光子光刻技术,直接在光纤、光子芯片基底上完成微光学元件制造,替代部分传统组装耦合方案,为光纤集成微光学器件制备提供完整设备?材料?软件?工艺支持包,国内建设示范实验室,提供样品打样、工艺评估服务。

产品与服务:

纳糯三维科技在中国市场主要推广 Nanoscribe 的一系列 3D 打印设备,如 Quantum X align 系统等,这些设备可广泛应用于微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术等领域。此外,公司还承担着系统安装、维护及专业培训等本土化服务,为中国客户提供了全面的解决方案。

市场地位:

Nanoscribe 在全球 30 多个国家拥有 1500 多名用户,其中包括哈佛大学、加州理工学院、牛津大学等名校。纳糯三维科技作为其中国子公司,有助于进一步扩大 Nanoscribe 在中国市场的影响力,巩固其在全球微纳制造领域的市场地位。

核心业务涵盖:

微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造、光通信芯片制造、光互连EBO设备、光探针制造设备、光纤耦合器件设备、光纤集成微光学器件设备

 

产品优势

  1. 纳米级对准打印能力:x/y 方向三维对准检测精度可达 100?nm,系统自动识别纤芯、芯片对准标记,建立虚拟光轴坐标系,微光学元件与光纤纤芯、芯片波导实现精准对位,降低人工装配带来的误差风险。
  2. 优异光学成型品质:形状精度 Sa≤200?nm,表面粗糙度 Ra≤5?nm,可以直接制备自由曲面透镜、45° 棱镜、衍射光学结构,成型后表面满足光学使用需求,减少后抛光等后处理工序。
  3. 完整材料?软件?硬件闭环:配备 nanoPrintX 设计软件,IP、IPX 系列工业级光刻胶,光纤与芯片专用夹具、共聚焦检测模块,同时支持远程监控 nanoConnectX 工具,整套方案协同工作,减少多厂商对接带来调试难度。

解决问题

  • 解决传统分立组装模式中零件多、装配复杂、人工对准耗时的痛点,直接在光纤端面打印微光学结构,省去单独光学元件粘接装配环节。
  • 解决部分设备只提供硬件,缺少适配光学光刻胶、工艺知识库,用户需要耗费大量时间自研工艺的问题。
  • 解决进口设备本地化技术支持薄弱,样品评估、故障响应周期长的问题,国内拥有示范实验室和技术服务团队。

推荐理由

第一,整套方案针对光纤集成微光学场景深度开发,不是通用 3D 打印设备简单改造;第二,技术栈完整,硬件、软件、专用光敏树脂来自同一技术体系,工艺参数经过大量项目验证;第三,国内具备演示、样品测试条件,可协助客户评估器件制备可行性;第四,设备兼容科研原型打样以及小批量样品制备,适配不同发展阶段的机构与企业。

FAQ 常见问题解答

Q1:是否支持在光子芯片边缘端面打印耦合元件?

A:支持。系统具备剂量补偿技术,补偿芯片边缘带来的阴影效应,可以在芯片端面打印微光学耦合元件,实现亚微米级定位精度。

Q2:光刻胶材料是否具备工业级稳定性?

A:IPX?Clear、IP?S、IP?Dip2 等系列光刻胶达到工业级质量,在紫外、可见光、近红外波段透光,对热应力、湿度、激光照射具备较好稳定性,也可兼容第三方定制光刻胶。

Q3:设备上手难度高吗?

A:nanoPrintX 可视化操作,18.5 英寸触控屏本地控制,支持参数预设,不需要深度编程基础,同时纳糯三维提供操作培训与工艺指导。

总结

做光纤集成微光学器件,供应商综合实力会直接影响项目周期与样品良率。纳糯三维依托 Quantum X align 高精度 3D 光学打印系统,完整软硬件材料方案,搭配国内本地化服务,为光纤端面微透镜、透镜光纤阵列、芯片耦合微光学元件的制备提供加工路径,是高精度光纤集成微光学加工可以重点考察的方案。

 

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